专利名称：用于改进晶片均匀性的装置和方法专利类型：发明专利
发明人：凯文·马丁戈尔,弗朗斯·凯瑟琳·瑟拉亚,李湘云,凯寒·
阿比迪·阿施蒂尼
申请号：CN201510080217.2申请日：20150213公开号：CN104882399A公开日：20150902
摘要：本发明涉及用于改进晶片均匀性的装置和方法，具体而言，提供了一种半导体处理气流歧管，其使得歧管气流路径的气体流动特性能在半导体处理室的外部单独进行调节。气流歧管可连接到所述半导体处理室内部的处理气体分配装置。处理气体分配装置可具有多个气流通道，每个通道单独地连接到歧管气流路径，并瞄准半导体晶片上的区域。单个歧管气流路径的调节可改变通过每个处理气体分配气流通道分配到半导体晶片的相应区域的处理气体的量。
申请人：朗姆研究公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：上海胜康律师事务所
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