专利名称：一种新型反射吸收一体化电磁屏蔽结构专利类型：发明专利
发明人：袁黎明,骆定一,马尧,许勇刚,王晓冰申请号：CN201610984556.8申请日：20161109公开号：CN106572625A公开日：20170419
摘要：本发明公开了一种新型反射吸收一体化电磁屏蔽结构，其包含：由外来电磁波的照射方向由外至里依次设置的反射屏蔽层、电介质层、FSS表面以及高损耗介质层；反射屏蔽层具有高电磁波屏蔽效能对电磁波起到反射作用；电介质层对突破四分之一波长厚度的限制起到作用；FSS表面由若干周期排列在电介质层上的正方形金属贴片构成，当电磁波入射到该表面时，反射波与入射波电场的相位相同，具有电场同相反射特性，且该FSS表面弥补了反射屏蔽层低频屏蔽效能的不足实现对电磁波的强吸收；高损耗介质层结合FSS表面的电场同相反射特性实现对电磁波的强吸收。其优点是：实现对外来电磁波的反射屏蔽以及对透射的杂波进行强吸收转化的目的，大大减弱电磁波的二次散射。
申请人：上海无线电设备研究所
地址：200090 上海市杨浦区黎平路203号
国籍：CN
代理机构：上海信好专利代理事务所(普通合伙)
代理人：潘朱慧
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