专利名称：湿式蚀刻装置专利类型：实用新型专利发明人：苏左将
申请号：CN201621061323.2申请日：20160919公开号：CN206003750U公开日：20170308
摘要：本实用新型公开了一种湿式蚀刻装置。此湿式蚀刻装置包含转盘、第一酸液供应单元与第二酸液供应单元。其中，转盘用以承载晶圆。第一酸液供应单元设置在晶圆的上表面的上方，且第二酸液供应单元邻设于第一酸液供应单元。第一酸液供应单元以沿着晶圆的上表面并通过转盘轴心的方式移动。前述的第二酸液供应单元具有顶面、至少一个供应通道与底面，且每个供应通道分别连通顶面与底面。第二酸液供应单元不设置在第一酸液供应单元的移动路径上。本实用新型的湿式蚀刻装置可控制晶圆蚀刻的表面均匀度，并提升其控制精准度。
申请人：顶程国际股份有限公司
地址：中国台湾台中市南区文心南路546-3号
国籍：TW
代理机构：北京中誉威圣知识产权代理有限公司
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