专利名称：一种原位合成低压冷喷涂CuAlNiCrTiSi高熵合金涂
层的制备方法
专利类型：发明专利
发明人：冯力,胡昱轩,安国升,杨效田,李文生,李俊琛申请号：CN201910793639.2申请日：20190827公开号：CN110344045A公开日：20191018
摘要：本发明提供了一种原位合成低压冷喷涂CuAlNiCrTiSi高熵合金涂层的制备方法，该方法为：将Cu粉、Al粉、Ni粉、Cr粉、Ti粉和Si粉，混合均匀得到冷喷用粉体，然后低压冷喷涂至金属基体表面，得到混合粉体涂层，再进行感应重熔原位合成，得到CuAlNiCrTiSi高熵合金涂层。本发明使用低压冷喷涂技术，将冷喷用粉体低压冷喷涂到基体上，进行感应重熔原位合成，得到CuAlNiCrTiSi高熵合金涂层，合金化反应充分，混合粉体涂层的微观组织从纯金属原位形成具有面心立方和体心立方结构的高熵合金组织，形成了高熵合金涂层，组织致密，孔隙率低，高熵合金组织结构稳定、杂质少、机械性能优良，强度高、硬度高、耐磨和耐腐蚀性能良好，CuAlNiCrTiSi高熵合金涂层厚度在100μm～4mm，制备设备简单，工艺方便。
申请人：兰州理工大学
地址：730050 甘肃省兰州市七里河区兰工坪287号
国籍：CN
代理机构：西安汇恩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：张伟花
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