专利名称：曲面结构的制造方法专利类型：发明专利发明人：西原宗和申请号：CN01118831.6申请日：20010619公开号：CN1338746A公开日：20020306
摘要：本发明公开了一种结构,其能够用作包括磁头在内的电子器件,光学器件,或精密零件并具有一个结构主体。在结构主体的一个表面上通过喷镀形成有薄膜。结构主体通过薄膜的内应力弯曲,由此使结构主体的一个表面和与该表面相对的另一个表面成为曲面。
申请人：松下电器产业株式会社
地址：日本国大阪府
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：刘晓峰
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