专利名称：一种电池隔离膜及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：程跃,熊磊,邓洪贵,何方波,王伟强申请号：CN201611052346.1申请日：20161125公开号：CN106486632A公开日：20170308
摘要：本发明公开了一种电池隔离膜及其制备方法。所述方法通过将混合的原料挤出、冷却成型、萃取、拉伸和热定型得到电池隔离膜，所述原料包括分子量为1.0×10‑10.0×10的超高分子量聚乙烯、密度为0.940‑0.976g/cm范围内的高密度聚乙烯、抗氧剂、和成孔剂，所述方法包括交联。
申请人：上海恩捷新材料科技股份有限公司
地址：201399 上海市浦东新区南芦公路155#
国籍：CN
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：张睿
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